日本shinkuu真空電子顯微鏡觀察涂層設備
由于使用了空心陰極樣品架,并且通過低壓放電進行涂覆,因此幾乎沒有樣品損壞。由于在空心陰極內部產生均勻的高密度等離子體,因此,與樣品的高度和材料無關,在圓筒內部放置的樣品表面上會形成厚度均勻的Os膜。由于將所需量的gas氣注入到空心陰極中,因此消耗量很小,并且未反應的氣體被活性炭捕集器吸附和去除,從而抑制了有害氣體向大氣中的釋放。
應用
SEM和TEM的coating涂設備。由于它具有良好的粒徑和優異的包裹性,因此對于高倍率觀察應用和形狀復雜的樣品非常有效。Os超薄導電涂層還適用于EBSD分析,俄歇分析和X射線分析。
主要產品規格
項目 | 規范 |
電源 | AC100V(單相100V15A)1端口 3芯插頭,帶接地線(3m) |
裝置尺寸 | 寬470毫米,深400毫米,高412毫米 (重量25千克) |
旋轉泵 | 寬120毫米,長290毫米,高250毫米 排氣速度30升/分鐘特殊油用旋轉泵 (重量11千克) |
樣品室尺寸 | 內徑120毫米,高度77毫米(由硬玻璃制成) |
電極 | 陽極:Φ110mm 陰極:Φ108內徑,深度35 mm (根據我們的采用空心陰極法) |
樣品臺尺寸 | Φ98mm,浮動安裝在空心陰極中 |
可以裝載的樣本量 | Φ98mm,高度45mm(包括樣品架) |
標準 | 厚度:Φ12.8mm以下 高度:尺寸主體類型為60 mm以下,安瓿類型為65 mm以下 |
OsO4消耗量(使用次數) | 每1克充足量約100次(在標準使用條件下) (使用次數因使用頻率和成膜時間而異) |
雙語顯示功能 | 配備日文和英文顯示切換功能 |
日本shinkuu真空電子顯微鏡觀察涂層設備
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